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XAFS實驗室

設(shè)備介紹

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設(shè)備介紹

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RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,是目前國際最先進(jìn)的新型XAFS/XES光譜儀,儀器原理主要是將X光源、樣品、SBCA晶體和探測器置于羅蘭圓上,進(jìn)行能量掃描和數(shù)據(jù)收集完成XESXAFS測量,并最終形成形成可供分析的X光吸收譜和發(fā)射譜線。該儀器可檢測原子的環(huán)境結(jié)構(gòu)和電子所處的能帶結(jié)構(gòu)及環(huán)境影響,在實驗室即可獲得接近同步輻射試驗品質(zhì)的譜線,我們的實驗平臺和儀器將解決部分課題無法申請到同步輻射光源的難點痛點。


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